Pengaruh Konsentrasi Hidroflour Terhadap Gugus Fungsi Permukaan Silikon Berpori

Wa Ode Sitti Ilmawati, Wa Ode Sitti Musnina, Muhamad Handoyo Sahumena

Abstract


Penelitian tentang silikon berpori (porous silicon-PS) yang dibuat dengan cara anodisasi wafer silikon [111] tipe-p dalam larutan asam hidroflour (HF) telah dilakukan. Penelitian ini bertujuan mengetahui pengaruh konsentrasi larutan HF terhadap gugus fungsi permukaan PS. Konsentrasi larutan HF bervariasi yaitu 20%, 40%, dan 48%. Waktu anodisasi berlangsung selama 40 menit. Selama proses anodisasi digunakan magnetik stirer untuk menjaga homogenitas larutan HF. Hasil karakterisasi FTIR menunjukkan bahwa konsentrasi larutan HF memengaruhi gugus fungsi permukaan PS yang ditunjukkan dengan munculnya gugus SiHn. PS yang dianodisasi dalam larutan HF 20% dan  40%  menunjukkan letak gugus SiHn yang relatif sama.


Kata kunci: Wafer silikon, silikon berpori, porous silicon (PS), asam hidroflour (HF), gugus fungsional, FTIR


Full Text:

PDF


DOI: http://dx.doi.org/10.33772/pharmauho.v3i1.3447

Refbacks

  • There are currently no refbacks.


Creative Commons License
This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.